Компания AMD представила свои первые процессоры, изготовленные на базе
45-нм технологического процесса, предназначенные для серверов и
настольных систем. Ожидается, что массовый выпуск таких микросхем
начнется во II половине 2008 г. Главный конкурент AMD - компания Intel
начала выпуск 45-нм чипов в 2007 г.
Компания AMD на выставке CeBIT 2008
в Ганновере представила свои первые процессоры, изготовленные на базе
45-нм технологического процесса. Четырехъядерные чипы под кодовым
названием Shanghai для серверов и Deneb для настольных систем были
изготовлены на фабрике Fab 36 в Дрездене, Германия. Для их производства
использовались 300-мм подложки. Техпроцесс с топологическим уровнем
45 нм был разработан компанией AMD совместно с ее партнером,
корпорацией IBM.
Микропроцессоры, изготовленные на базе 45-нм технологии, обладают
более высокой производительностью в пересчете на ватт потребляемой
мощности по сравнению с чипами с топологическим уровнем 65 или 90 нм.
В 2006 г. корпорация IBM, например, установила, что 45-нм чипы быстрее
65-нм как минимум на 30%. Процессоры AMD Shanghai и Deneb были
изготовлены благодаря применению новых материалов и технологий, включая
иммерсионную литографию. В компании уверяют, что иммерсионная
литография более эффективная и менее затратная технология по сравнению
с литографией двойной маскировки (double-mask) и двойного травления (double-etch), которые находятся на вооружении у других производителей, конкурентов. Кроме того, в арсенале AMD находятся новые транзисторы Hi-k (по аналогии с Intel), которые могут быть внедрены уже в ближайшее время.
Новые процессоры Shanghai и Deneb, как и Phenom X4, являются «по-настоящему» четырехъядерными, так как все четыре ядра размещены на одной кремниевой подложке.
Напомним, что главный конкурент AMD — компания Intel приступила
к выпуску 45-нм процессоров в конце прошлого года. Начало массового
производства 45-нм чипов AMD ожидается во II половине 2008 г.
Не так давно компания AMD сообщила об изготовлении микросхемы, в которой первый слой металлических соединений был целиком создан с помощью
EUV-литографии. Ожидается, что благодаря данной технологии в 2016 г. индустрия сможет перейти на 22-нм технологический процесс.
|